保持内部气氛
- 气密罐(外马弗炉)的真空密封设计,特别适用于要求苛刻的气氛(甲硅烷、氢气、气态镁、真空等)
- 内部马弗炉用于控制从气密罐内壁到产品的气氛引导
安全是我们的首要任务:我们的所有系统都是根据机械指令设计的。
元峻釜式窑是甲硅烷 (SiH4)、氢气 (H2)、气态镁 (Mg)、真空等苛刻气氛工艺的理想解决方案。
釜式窑的典型应用是对非金属粉末进行化学气相沉积,以及对金属粉末进行氧还原,以获得高纯度等级的金属。
釜式窑具有独特的工艺气体循环,包括高工艺气体速度和直接在产品上方的最佳工艺气体导向,使整个产品结构中的气体流动均匀,从而确保了良好的气氛和温度均匀性。由于工艺气体循环速度高,因此可以在不影响气氛和温度均匀性的情况下实现极短的加热和冷却速度。
为了节省额外的工艺气体并最大限度地缩短循环时间,工艺气体交换是通过对工艺室抽真空,然后注入工艺气体来实现的。
由于釜式窑是一种间歇式炉,因此所需空间小,布局紧凑。
使用元峻釜式窑可实现不同的工艺流程。
例如包括
保持内部气氛
安全是我们的首要任务:我们的所有系统都是根据机械指令设计的。
气氛受控
直接在产品上达到最大均匀度
全功率电加热元件
整体抽气和排气系统
强大的冷却能力可缩短循环时间
装料和卸料时不浪费时间
高性能陶瓷的正确热处理
将待加工产品通过装载机构运至炉底,并通过升降门提升至炉下,当炉底抵达预定位置时,两者立即锁定在一起。为防止热量外泄以及保证气密性,浮动密封装置带有弹簧件。完成后升降门可用于平行的其他升降炉。
在脱蜡阶段(高达500°C),窑炉装料通过循环热空气加热,热空气之前已通过外部加热器预热。含有粘合剂的废气在后续焚烧炉中进行净化。在脱蜡阶段结束时,炉内的电加热元件会进一步加热。
工艺气体还可以在高达800°C的高温下保持循环。这有助于在加热过程中实现最佳的温度均匀性。工艺气体的循环在温度高于800°C时结束。
此外,在随后的工艺步骤中,在达到最高温度之前不进行气体或空气循环。这是因为炉内气氛中的湍流通常对烧结和结晶过程非常重要。在工艺结束时,工件用回火空气或气体进行冷却。为此,在冷却介质到达产品载体和产品之前,外部加热系统会提前调节冷却介质的温度。炉底冷却至约250°C,然后从提升口转移到冷却室,产品最终在冷却室中冷却至室温。
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